台积电:2nm节点进展顺利 2025下半年推出N3X、N2 制程
2024-05-24
来源:IT之家
5 月 24 日消息,据台媒《MoneyDJ 理财网》报道,台积电高管在 2024 年技术论坛新竹场上称,其采用 Nanosheet 纳米片(GAA 晶体管)的2nm节点进展顺利。
台积电联席副 COO 张晓强表示,台积电的 2nm 制程进展“非常顺利”:目前纳米片的“转换表现”已达到目标 90%,按良率计算也超过了 80%。
台积电认为其N2制程在 2025 年推出时,将继续成为代工业界最领先的技术。
另据外媒 Anandtech 整理,台积电将在 2025 下半年实现 N2 制程量产,同期还将带来 3nm 家族中面向 HPC 应用的N3X制程。
N3X 制程拥有更高的 1.2V 最大电压,相较 N3P 制程在相同频率下功耗降低 7%,在相同面积下性能提升 5%,在相同频率下密度提升 10%。另据IT之家此前报道,该节点有望从今年开始接获投片。
而在 2026 下半年,台积电将量产两个 2nm 家族变体制程:N2P 和 A16。
N2P 制程将相较 N2 制程在相同频率和密度下功耗降低 5~10%,在相同密度和功耗下性能提升 5~10%。
在 A16 节点,台积电将正式引入背面供电技术。该制程可在相同工作电压下,频率提升 8~10%;在相同频率下功耗降低 15~20%,密度至高提升 10%。
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