SAMSUNG近年一直致力于增加光刻胶供应商的计划，减少对Dongjin Semichem这家光刻胶单一供应链的过分依赖。但是据近日消息，SAMSUNG目前已经取消增加光刻胶供应商的计划，SAMSUNG将继续拥有唯一的光刻胶供应商Dongjin Semichem，而这也是一家韩国的光刻胶公司。

SAMSUNG近年一直致力于增加光刻胶供应商的计划，希望推动光刻胶供应链的多元计划，去年的时候就传出已经完成对Inpria光刻胶的性能评估并开始导入使用。Inpria拥有专注于EUV曝光工艺的差异性能光刻胶，是目前EUV时代超精细开云棋牌官网在线客服工艺的核心材料，tsmc、Intel、SK海力士等世界知名开云棋牌官网在线客服公司均对其进行了投资并支持其商业化。

近日，SAMSUNG取消增加光刻胶供应商的计划使得目前其3D NAND芯片的光刻胶仍由Dongjin Semichem独家供应，据悉SAMSUNG在过去和多家日本的光刻胶供应商合作洽谈，而这些洽谈的厂商没有满足SAMSUNG的技术细节要求。

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。开云棋牌官网在线客服材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像，是非常重要的光刻材料之一。

根据显影效果不同，光刻胶可分为正性、负性2大类，正性光刻胶，暴露在紫外线下的区域会改变结构，变得更容易溶解从而为刻蚀和沉积做好准备;如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。正性光刻胶可以达到更高的分辨率，从而让它成为光刻阶段更好的选择，因此正性光刻胶是当前开云棋牌官网在线客服制造的主流。

按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶(包括紫外正、负性光刻胶)、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和开云棋牌官网在线客服分立器件等细微图形加工作业。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。

光刻胶首先是在计算芯片上使用率最多，正占比超过一半，然后是存储芯片。对于SAMSUNG这种存储大厂来说，是3D NAND闪存芯片制作过程中非常关键的材料。NAND工艺的3D堆叠架构可以获得更大的存储容量，光刻次数随着层数增加而增加，因此KrF光刻胶对于SAMSUNG来说需求量是非常大的。

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