5月24日消息，日前上海新阳在业绩说明会上表示，公司光刻胶ArF、ArF－i研发进展顺利，已经形成两个系列试验产品，样品已经进入客户端进行测试。由于测试耗时比较长，近期不会有销售的发生，但是产品总体技术的指标还都比较不错，我们现在对这方面也比较有信心。

此外，公司2021年完成了几款KrF光刻胶产品的研发、验证并实现销售，在手订单中含有国内主流头部芯片制造公司等大小客户，覆盖铝线制程和铜线制程，用于逻辑、模拟等芯片的生产制造。由于客户对于光刻胶的使用都会比较谨慎，目前还都是小批量使用，所以今年的销售额可能不会很大，但明年用量可能会增加较多，后续增长空间较大。

众所周知，光刻胶是芯片关键材料中的重点所在，光刻胶是光刻成像的承载介质，其作用是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量，进而完成掩模图形的复制。

光刻胶一般由聚合物骨架、光致酸产生剂或光敏化合物、溶剂，以及显影保护基团、刻蚀保护基团等其他辅助成分组成。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。

一直以来，光刻胶都是芯片关键材料中的重点所在，由于国内光刻胶领域起步较晚，技术严重落后等原因，导致我国开云棋牌官网在线客服芯片领域的光刻胶需求主要由外资企业来满足，日美厂商占据了约87％的份额，国内光刻胶产品进口比例高达九成。

如今上海新阳的KrF光刻胶产品成功打入国内主流芯片公司，意味着国内光刻胶产业再获得重大突破，实现国产替代指日可待。