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摆脱对日企依赖,三星SDI已开发开云棋牌官网在线客服光刻胶?

2021-06-25
来源:互联网乱侃秀

近日,韩媒BusinessKorea报道称三星SDI已开始开发开云棋牌官网在线客服光刻胶(PR),旨在将几乎由日企垄断的光刻胶生产内部化。

事实上,这则消息并不突兀,因为早在2019年的时候,当日本断供韩国光刻胶的时候,就传了类似的消息。

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不过三星SDI一直以来,并没有提及光刻胶开发项目的启动和完成时间,只是表示一旦完成开发,不仅是自用,还要向其他开云棋牌官网在线客服公司和其他使用光刻胶的公司出售。

而基于这次BusinessKorea报道,三星SDI表示,公司确实在开发各种类型的光刻胶,包括EUV光刻胶。

光刻胶目前主要有5大类,分别是g线、i线、KrF、ArF、EUV,这5种光刻胶针对不同的工艺制程。g线/i线主要用于250nm以上工艺;KrF用于250nm-130nm工艺;ArF用于130nm-14nm;EUV光刻胶主要用于7nm及以下工艺。

我们知道日本在光刻胶领域是处于垄断地位的,在g线/i线、KrF、ArF、EUV这几种光刻胶市场中,日本企业的市占率分别为61%、80%、93%,100%,总体份额超过75%。

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也正因为如此,所以一旦日本要断供光刻胶,对所有的芯片制造企业而言,都是一个大大的打击,特别是对于三星这样的厂商而言,毕竟EUV光刻胶只有日企才有,而三星生产7nm及以下的芯片,必须用到EUV光刻胶。估计这也是三星要研发光刻胶的原因,这样不至于让日本厂商卡住了脖子。

事实上,中国光刻胶同样处于尴尬地位,目前国内g线/i线光刻胶自给率约为20%,KrF光刻胶自给率不足5%,ArF光刻胶自给率为0,完全依赖进口,而EUV光刻胶就更加不用提了,自然不可能有,不过反正也不需要,国内生产技术还14nm,用不到EUV光刻胶。

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国内最牛的南大光电,前段时间表示已经研发出了ArF光刻胶,但还只能用在50nm工艺上,低于50nm工艺的光刻胶,意味着全部要进口。

所以我们真应该向三星学习,目前国内芯片产业高速发展,光刻胶是制造中必不可少的一种材料,必须自研才行,否则随时被日企卡脖子,你觉得呢?




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