美光技术公司正在使用极紫外（EUV）光刻技术来加快DRAM的开发。它正在参加由世界排名第一和第二的DRAM制造商三星电子和SK Hynix发起的竞赛。

美光科技公司正在寻找工程师，他们将通过各种招聘站点负责开发EUV设施。工程师将负责开发EUV扫描仪技术，管理新的EUV设备并与ASML（世界上唯一的EUV设备生产商）进行通信。

　　美光在全球DRAM市场中排名第三，仅次于三星电子和SK Hynix。它的市场份额约为20％。

　　美光最近在NAND闪存领域首次推出了176层产品。与其他顶级DRAM制造商一样，该公司正在生产10纳米第三代（1z）产品。预计该芯片制造商将在2021年上半年推出第四代（1a）DRAM。

　　但是，美光与三星电子和SK海力士之间的主要区别在于，美光不会将EUV技术应用于1a DRAM。

　　美光公司在最近的一份声明中建议，鉴于高成本和技术局限性，它甚至可能不会将EUV技术应用于下一代DRAM“ 1-beta”产品。

　　美光公司副总裁Scott DerBauer表示，该公司将在1-delta产品的生产中引入EUV工艺。