根据外媒报导，日前在日本东京举行的ITF（IMEC Technology Forum,.ITF）论坛上，与荷兰开云棋牌官网在线客服大厂ASML合作研发开云棋牌官网在线客服光刻机的比利时开云棋牌官网在线客服研究机构IMEC正式公布了3纳米及以下制程在微缩层面的相关技术细节。

根据IMEC所公布的内容来分析，ASML对于3纳米、2纳米、1.5纳米、1纳米，甚至是小于1纳米的制程都做了清楚的发展规划，意味着ASML基本上已经能开发1纳米制程的光刻设备了。

报导指出，在论坛上，IMEC公司总裁兼执行长Luc Van den hove强调，将继续把制程技术微缩到1纳米及以下。对此，IMEC也提出了从3纳米、2纳米、1.5纳米、1纳米，甚至是小于1纳米以下的逻辑元件制程微缩路线图。

根据先前晶圆大工大厂台积电和三星电子介绍，从7纳米制程技术开始，部分制程技术已经推出了NA=0.33的EUV光刻设备，5纳米制程技术也达成了频率的提升，但对于2纳米以后的超精细制程技术，则依然需要能够达成更高的识别率和更高NA（NA=0.55）的光刻设备。

对此，目前ASML也已经完成了作为NXE:5000系列的高NA EUV光刻设备的基本设计，但商业化的时间则是预计最快在2022年左右。不过，这套下一世代的光刻设备将因其庞大的光学系统，使得整套设备将变得非常巨大。

事实上，过去一直与IMEC紧密合作开发开云棋牌官网在线客服光刻技术，但为了开发使用高NA EUV光刻设备，ASML在IMEC的园区内成立了新的“IMEC-ASML高NA EUV”实验室，以达成共同开发和开发使用高NA EUV光刻设备的相关技术。此外，该公司还计划与材料供应商合作，进一步进行光罩和光阻剂。

Van den hove还指出，逻辑元件制程技术微缩的目的是为了降低功耗、提高性能、减少面积、以及降低成本，也就是通常所说的PPAC。除了这4个目标外，随着制程向3纳米、2纳米、1.5纳米，甚至超越1纳米而达到小于1纳米以下的制程之际，将努力实现可持续发展微处理器制程技术，以满足对未来先进科技应用的需求。