韩国EUV光刻技术获重大突破
2020-11-19
来源：OFweek电子工程网
11月17日消息，韩国知识产权局（KIPO）公布的统计数据显示，2011－2020年,韩国EUV光刻专利2014年有88项，2018年有55项，2019年则为50项。
据报道，以三星为代表的韩国企业通过不断的在研究开发方面投入，在EUV光刻技术上不断缩小与行业领先企业之间的差距。近期，三星正式推出的Exynos1080芯片，背后就有对EUV光刻机技术突破的因素。
Exynos1080芯片是三星首款基于5nm工艺制造的手机SoC芯片。
本站内容除特别声明的原创文章之外，转载内容只为传递更多信息，并不代表本网站赞同其观点。转载的所有的文章、图片、音/视频文件等资料的版权归版权所有权人所有。本站采用的非本站原创文章及图片等内容无法一一联系确认版权者。如涉及作品内容、版权和其它问题，请及时通过电子邮件或电话通知我们，以便迅速采取适当措施，避免给双方造成不必要的经济损失。联系电话：010-82306116；邮箱：aet@chinaaet.com。