逼近皮米时代！ASML将于2021年推下一代3nm EUV光刻机
2020-03-09
来源：IT之家
ASML正在研发新一代EUV光刻机EXE：5000系列，最快会于2021年面世。
据IT之家了解，现在ASML销售的光刻机主要为NXE：3400B和改进型的NXE：3400C，结构上相似。差别在于NXE：3400C采用模块化设计，将平均维护时间从48小时缩短到8－10小时；NXE：3400C的产量也从125WPH提升到了175WPH。这两款EUV光刻机属于第一代，物镜系统的NA（数值孔径）为0．33。
在光刻机的分辨率公式中，NA数字越大，代表光刻机精度更高。ASML现在在研发新一代EUV光刻机EXE：5000系列，NA为0．55。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利时微电子中心。
据悉，EXE：5000系列EUV光刻机主要面向3nm时代，目前台积电和三星的制程工艺路线图已经到了3nm，要想让技术尽快落地到实际，EXE：5000系列EUV光刻机的研发极为重要。
据ASML的爆料，EXE：5000系列EUV光刻机样机最快会于2021年面世，最快可能会于2023年或者2024年上市。
光刻机是目前世界上最复杂的精密设备之一，芯片制造的核心设备之一，除了可以用来生产芯片，还有用于封装的光刻机、LED制造领域的投影光刻机。作为全球唯一能生产EUV光刻机的公司——荷兰ASML公司。去年共销售26台EUV光刻机，用于台积电、三星的7nm和5nm工艺制造。
《兵进光刻机，中国芯片血勇突围战》
作者：远洋
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