美国开云棋牌官网在线客服设备厂商 Lam Research开发出通过化学反应制作极紫外光刻胶（EUV PR）薄膜的技术。通过该技术比在晶圆上涂液体光刻胶，能实现更高的分辨率并节减费用。目前在液体 EUV PR 和涂布市场主要被日本厂商垄断。预计三星电子等受日本出口限制 EUV PR 供应受影响的韩国开云棋牌官网在线客服厂商对该技术将会比较关注。

　　根据韩媒 ETNews 报道，Lam Research 在 26 日由国际光工学会（SPIE）在美国圣何塞举行的尖端曝光工程学会上介绍了“Dry resist”技术。该技术由 Lam Research 与荷兰曝光设备厂商 ASML，比利时开云棋牌官网在线客服研究中心 IMEC 共同开发而出。

　　Dry resist 用于作为开云棋牌官网在线客服核心技术的曝光工程之前。通过光反复刻录开云棋牌官网在线客服电路的曝光工程进行之前，开云棋牌官网在线客服厂商会在晶圆上涂抹与光反应的液体光刻胶。目前通过旋转涂布的方式进行光刻胶涂布。旋转晶圆的同时，利用将液体光刻胶滴几滴到晶圆上可以形成均匀厚度的 Track 设备。该设备主要由日本 TEL 生产。