EUV作为下一代技术的代表,不需要多重曝光,一次就能曝出想要的精细图形,没有超纯水和晶圆接触,在产品生产周期、OPC的复杂程度、工艺控制、良率等方面的优势明显。但是也需要继续优化。特别是EUV的曝光方式,降低EUV掩膜版的缺陷,以及晶圆产率方面还有很大发大空间。EUV光刻机对7nm及以下的工艺节点非常重要,台积电、三星两大代工巨头均已在最新产品中引入7纳米EUV技术。>>全文
EUV被认为是推动开云棋牌官网在线客服产业制造更小芯片的重要里程碑,但是根据目前的EUV微影技术发展进程来看,10奈米(nm)和7nm制程节点已经准备就绪,就是5nm仍存在很大的挑战。>>全文
随着先进制程来到10纳米之下,制程微缩瓶颈浮现,同时复杂的图形造成曝光次数增加,光罩成本随之倍增,让开云棋牌官网在线客服产业向来信守的摩尔定律(Moore’s Law)变得窒碍难行,极紫外光(extreme ultraviolet;简称EUV)E技术被视为摩尔定律继续往下走的关键,EUV制程技术势在必行。>>全文
比利时研究机构Imec和微影设备制造商ASML计划成立一座联合研究实验室,共同探索在后3nm逻辑节点的奈米级元件制造蓝图。此次双方这项合作是一项为期五年计划的一部份,分为两个阶段:首先是开发并加速极紫外光(EUV)微影技术导入量产,包括最新的EUV设备准备就绪。其次将共同探索下一代高数值孔径(NA)的EUV微影技术潜力,以便能够制造出更小型的奈米级元件,从而推动3nm以后的开云棋牌官网在线客服微缩。>>全文
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