俄勒冈州威尔逊维尔，2016 年 6 月 15 日—MentorGraphics®公司（纳斯达克代码：MENT）今天宣布推出 Tanner Calibre One IC验证套件，作为 Tanner™ 模拟/混合信号 (AMS) 物理设计环境不可或缺的一部分，使 Tanner EDA 的用户群可以轻松使用 Calibre® 验证工具的所有功能。该套件大大改善了 IC 设计和验证解决方案，使 Tanner 客户可以在更为集成的环境中使用 Calibre 物理和电路验证工具，尤其是在 Tanner L-Edit™ 版图布局环境下时更有优势。

　　Calibre 是业内领先的物理验证平台，符合所有大型 IC 晶圆代工厂的 Sign-off 要求，而且 Tanner Calibre One 验证套件使用的是相同的 Calibre 设计套件。已经拥有独立的 Calibre 许可证并考虑使用 Tanner 设计环境的客户可以继续使用已有的 Calibre-Tanner 接口。此外，Calibre 和 Tanner AMS IC 设计流程之间的自定义集成为 Tanner IC 设计人员提供了另一种重要的方案，使设计团队得以访问所需内容，充满信心地进入设计的流片阶段。

　　“L-Edit 与 Tanner Calibre One 验证套件无缝交互，使我们版图布局团队的效率得到大幅提升，”Sensor Creations Inc.总裁 Stefan Lauxtermann 说道，“我们的客户非常赞赏我们采用 Calibre 的决定，并且晶圆代工厂的最终 DRC 与我们使用的 Tanner 设计流程之间是一对一的对应关系。”

　　Tanner Calibre One 验证套件包括以下产品：

　　·Calibre nmDRC™（层次化设计规则检查），可确保物理版图顺利投产制造。作为业界领先的工具能够提供快速的周期时间以及创新的设计规则功能。

　　·Calibre nmLVS™（层次化版图与电路图对比），可从电路结构和器件形状的角度检查物理版图是否与电路图完全一致。它提供了实际器件几何测量和精密的交互式调试功能，可提高设计人员的生产率，确保验证准确。

　　·Calibre xRC™（寄生参数提取），可验证版图依赖效应不会对设计的电气性能产生不利影响，从而为全面且准确的布线后分析和仿真提供准确的寄生数据。

　　此外，Calibre RVE™ 工具将解决方案整合在一起，提供了图形结果查看环境，然后通过肉眼快速识别设计问题以及交互选择 Tanner 版图与电路图输入工具中的相关问题，进而减少调试时间。

　　Tanner IC 设计套件支持在一个完整且高度集成的端到端流程中进行模拟、混合信号和 MEMS 设计。设计人员可在这个统一流程中输入电路图，执行模拟和混合信号仿真，然后再对物理设计进行版图布局。通过 Tanner Calibre One 验证套件，使用 Tanner IC 流程的每位设计人员能够以交互方式调用独立的 Calibre 工具，以进行设计验证。

　　“有了 Tanner Calibre One，使用 L-Edit 的设计人员提高了信心，确信其流片阶段必能成功，”Mentor Graphics 的 Tanner 运营总经理 Greg Lebsack 说道。“令人激动的是，现在，全球的 Tanner 客户群都可以使用 Calibre 套件中引领业界的主要功能。”

　　在 2016 年设计自动化大会 (DAC) 上，Tanner EDA 展位（展位号 1828）将展示 Tanner Calibre One 设计流程。

　　如需其他产品信息，请访问网站：https://www.mentor.com/tannereda/ 和 https://www.mentor.com/calibre