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【AET看慕展】TI独创DLP技术推动第一代工业应用

2016-03-20
作者:杨晖

AET 2016慕尼黑电子展系列报道之TI

DLP(Digital Light Procession)数字光处理,其技术核心是DMD(Digital Micromirror Device)芯片。1987年,由TI公司Larry Hornbeck博士于发明。近年,DLP技术的应用得到蓬勃发展,2015年,美国电影艺术与科学学院奖(即奥斯卡金像奖)特别给Larry Hornbeck博士颁发了“学院功绩奖”,以表彰其卓越贡献。现在,DLP在更多的新兴市场领域获得了应用,例如3D机器视觉3D打印、光谱分析以及数字曝光等一系列新一代工业应用。

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在与慕尼黑电子展同期举办的慕尼黑上海光博会上,德州仪器(TI)(NASDAQ: TXN)展示了由TI DLP®先进光控技术实现的工业应用解决方案。

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“我们十分高兴能够在慕尼黑上海光博会上见证DLP产品实现这些创新的应用。通过将我们的先进光控技术和广泛的生态系统组合在一起,我们能够帮助客户和开发人员加快产品开发和上市时间。”TI DLP产品嵌入式产品总经理Mariquita Gordon表示。

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凭借针对速度、分辨率以及波长进行优化的芯片组产品库,DLP先进光控解决方案可以帮助用户解决紫外光、可见光和近红外光频谱范围内遇到的各种问题。借助TI强大而又易于使用的开发工具,用户现在能够迅速且更加轻松地将创新产品推向市场。

TI在展会进行了众多功能强大的演示,包括:

  • 基于DLP4500芯片组的用于3D机器视觉的3D测量解决方案

  • 基于DLP4500芯片组和DLP9500UV芯片组实现的3D打印解决方案

  • 基于DLPNIRscan Nano评估模块(EVM)实现的便携光谱分析开发套件


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“基于TI对于DLP技术的持续研发和日益增长的市场需求,DLP技术近年来在工业领域作出了很大进展,比如我们此次在光博会上展示的针对3D机器视觉、3D打印、光谱分析以及数字曝光的创新解决方案,我们对这些市场有信心。”TI中国区业务拓展总监吴健鸿(Paul Ng)表示。


未来,TI DLP技术将用于智能汽车领域的抬头显示、智能前灯等。

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